蛋白质组学子平台
首页 > 技术平台 > 蛋白质组学子平台

2105C2微流控实验室

预约方法:电话预约

2.jpg

主要技术指标
曝光时间调解器:0.1至 999.9秒
曝光波长:350-450nm

应用范围
生物芯片/微流控芯片
微机电器件
纳米压印

操作流程
(1)开机:电源(ON)
(2)设置曝光时间
(3)设置曝光能量
(4)曝光完毕禁止关闭机器电源,必须10~15min后才能关闭机器电源(机器需要散热)
(5)每次曝光灯管启动时间间隔3min左右(即关灯后至少3min后才能再次开灯)

SU-8光刻胶制备方法
SU-8系列光刻胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶,具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形性能,还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性。SU -8在受到紫外辐射后发生交联,是一种化学扩大负性胶,可以形成台阶等结构复杂的图形,SU-8胶不导电,在电镀时可以直接作为绝缘体使用。操作步骤如下:
(1)将SU-8光刻胶组分旋涂在基材上,施涂厚度几至几百微米。涂覆晶片随后在95摄氏度下干燥20分钟并随后冷却至室温。
(2)将负光掩模与涂覆晶片接触,一起放置到紫外曝光机中,设置紫外辐射在剂量250mJ/cm2曝光。
(3)在95摄氏度下加热曝光后的晶片10分钟。
(4)在显影液中浸渍10分钟,随后用水漂洗,在空气中干燥并显影。

Top